规格参数
| 涂层技术 | Arc |
| 刻蚀 | 侧向灯丝离子源 |
| 弧源数量 | 8PCS |
| 设备结构 | 前后分体式结构 |
| 设备规格 | 宽2450*深3100*高2100(mm) |
| 占地 | 宽4500*深5000(mm) |
| 转架载重 | 450KG(可定制) |
| 气体 | 高纯度工业气体 |
| 冷却水 | 3bar、6m3/h |
| 平均功率 | 40KW·h |
| 单炉能耗 | 300kwh |
过程时间：5~7 H
每日批次：3~4 批
可匹配工艺
该设备可用于CrAlN ,TiSiN, TiN，AlTiN ，DLC等工艺生产。
◆采用莱宝、岛津、霍廷格、VAT等国际一流品牌部件，极大保障了设备运行的稳定性。
◆全自动控制系统：工控机+触摸屏、一键涂层、异常报警、数据备份、能耗统计、工艺参数和流程的数据记录以及实时显示。
◆内置设备云，可远程诊断和维护。
◆自主研发“永磁+旋转”磁场蒸发源，溅射均匀、无液滴、靶材利用率高。
◆自主开发设计离子源，采用类PID算法，自主研发智能化操控系统。
◆有效涂层区域：Φ500*H600
◆4mm标准铣刀装夹数：3200PCS
◆1135刀片装夹数：12000PCS
定制化工艺： 夸克拥有专业且经验丰富的开发团队，依托于专业的研发和检测设备，根据客户对产品的性能要求，定制化设计、开发新型工艺。
截止2022年底，夸克在全国成立了八家涂层服务中心。夸克涂层秉承开放合作理念，在用户工厂内部建立涂层工厂、与本地化伙伴资源互补合建工厂等多重模式合作。同时欢迎业界仁人志士加盟，共同致力于涂层装备国产化及涂层服务能力提升。
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